反滲透處理主要分離對象是溶液中的離子范圍。用反滲透方法處理的水，純度高，它不但能去除離子范圍的雜質，還能去除有機污染物、微生物、病毒和熱原質等用其它方法難去除的雜質。一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后，產水電導率＜10μS/cm，經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產水電導率＜5μS/cm甚至更低，在一級反滲透系統(tǒng)后輔以混床離子交換設備或二級反滲透系統(tǒng) CEDI設備可以制備超純水，使電阻率達到15-18兆歐姆(電導率=1/電阻率)。設備采用低壓或超低壓反滲透膜，脫鹽率達98%-99.9%，運行壓力為0.7-2.OMpa?？蔀殡娏?、冶金、輕工、汽車、半導體、化工、制藥、食品、醫(yī)療衛(wèi)生、光伏電池片用水、太陽能真空管用水，車輪生產用水等行業(yè)提供高品質的純水。 純水設備現(xiàn)在有幾種主要工藝： 預處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝) 預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝) 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝) 預處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) EDI純水模塊和RO反滲透在純水中的應用 RO、EDI、樹脂離子交換是當今制備純水的必選工藝設備。其中RO反滲透是當今一項最實用的膜分離技術，是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質進行分離的過程?？捎行У厝コ械闹亟饘匐x子、鹽類、細菌等，去除率達到98%以上；EDI連續(xù)電除鹽設備ContinuousElectrodeionization（電解式連續(xù)去離子）為模塊式設備，可根據(jù)需要任意組合，該系統(tǒng)不需要停機再生，無需酸堿，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環(huán)保要求。可將水的電阻值由0.05-0.1MΩ/cm提升至15-18MΩ/cm。EDI裝置現(xiàn)已應用在半導體、電廠、電子、制藥、實驗室等領域制備高純水；陰陽離子及混床離子交換水處理設備是利用陰陽離子樹脂與水中溶解性鹽類離子進行離子交換的水處理技術；根據(jù)最終去除水中陰陽離子及混床離子交換除鹽水系統(tǒng)的交換特性，可將系統(tǒng)分為：單床式離子交換除鹽系統(tǒng)、雙床式離子交換除鹽系統(tǒng)和混床式離子交換除鹽系統(tǒng)。 純水設備應用領域： 微電子行業(yè):電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、電子新材料生產； 醫(yī)藥行業(yè)：醫(yī)藥注射用無菌水生產、口服液生產、藥劑生產純化水、血液透析用水 化學化工：超純化學試劑生產化工新材料生產； 其它：貴金屬冶煉、磁性材料生產、電子級無塵布生產、光學材料生產等