儀器特點(diǎn)：1、檢測(cè)速度20分鐘2、一次性專用試劑盒3、可現(xiàn)場(chǎng)定量檢測(cè)出二氧化硅的含量技術(shù)指標(biāo)：● 測(cè)定下限：1.0mg/L● 測(cè)定范圍：0.0～20.0mg/L● 精 度：5 ％● 測(cè)量方法：國(guó)標(biāo)方法（GB8538－1995）硅鉬黃法● 光 源：波長(zhǎng)為430nm 儀器特點(diǎn)：1、檢測(cè)速度20分鐘2、一次性專用試劑盒3、可現(xiàn)場(chǎng)定量檢測(cè)出二氧化硅的含量技術(shù)指標(biāo)：● 測(cè)定下限：1.0mg/L● 測(cè)定范圍：0.0～20.0mg/L● 精 度：5 ％● 測(cè)量方法：國(guó)標(biāo)方法（GB8538－1995）硅鉬黃法● 光 源：波長(zhǎng)為430nm 儀器特點(diǎn)：1、檢測(cè)速度20分鐘2、一次性專用試劑盒3、可現(xiàn)場(chǎng)定量檢測(cè)出二氧化硅的含量技術(shù)指標(biāo)：● 測(cè)定下限：1.0mg/L● 測(cè)定范圍：0.0～20.0mg/L● 精 度：5 ％● 測(cè)量方法：國(guó)標(biāo)方法（GB8538－1995）硅鉬黃法● 光 源：波長(zhǎng)為430nm 儀器特點(diǎn)：1、檢測(cè)速度20分鐘2、一次性專用試劑盒3、可現(xiàn)場(chǎng)定量檢測(cè)出二氧化硅的含量技術(shù)指標(biāo)：● 測(cè)定下限：1.0mg/L● 測(cè)定范圍：0.0～20.0mg/L● 精 度：5 ％● 測(cè)量方法：國(guó)標(biāo)方法（GB8538－1995）硅鉬黃法● 光 源：波長(zhǎng)為430nm 儀器特點(diǎn)：1、檢測(cè)速度20分鐘2、一次性專用試劑盒3、可現(xiàn)場(chǎng)定量檢測(cè)出二氧化硅的含量技術(shù)指標(biāo)：● 測(cè)定下限：1.0mg/L● 測(cè)定范圍：0.0～20.0mg/L● 精 度：5 ％● 測(cè)量方法：國(guó)標(biāo)方法（GB8538－1995）硅鉬黃法● 光 源：波長(zhǎng)為430nm