CMP拋光液
一、應用領(lǐng)域
   硅片、硬盤基片、二氧化硅、藍寶石、精密光學器件等的拋光。
二、產(chǎn)品特點
   1.經(jīng)特殊工藝合成的化學機械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質(zhì)量的拋光精度。
   2.納米顆粒硬度適中，既可獲得高拋光速率，又能減少表面劃傷。
   3.粒度可控，可根據(jù)客戶需要，定制不同粒度的產(chǎn)品（20-150 nm）。   
三、性能指標
 型號及標準          CMP30  CMP50  CMP80   CMP100    CMP150
 粒徑大小(nm)        20-40  40-60  60-90   100-130   140-170
 SiO2含量                      30±1%
 pH值                          10-12
 外觀                     透明至乳白液體
 保質(zhì)期(月)                    ≥12
 四、使用方法
   1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。
   2.稀釋后，粗拋時調(diào)節(jié)pＨ至11左右，精拋時調(diào)節(jié)pH至9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。
   3.循環(huán)拋光可以用原液。
五、包裝及儲存
   1．采用聚乙烯塑料桶包裝，主要包裝規(guī)格有25Kg、250Kg。
   2．貯存時應避免曝曬，貯存溫度為0-40℃。
   3．避免敞口長期與空氣接觸。