產(chǎn)品詳細介紹：具體技術(shù)參數(shù)請瀏覽:www.jiangwenco.com上相應(yīng)型號儀器樣本適用于光學顯微鏡,TEM,SEM樣品的樣品制備LeicaEMTXP自動靶面處理機LeicaEMTXP是全新設(shè)計的自動靶面處理機，它具備樣品切割、靶面研磨、拋光和電鏡樣品修塊等多種功能，并且自動化的產(chǎn)品設(shè)計使得以往耗時的靶面處理過程變得簡單而快捷。EMTXP一體化整合立體顯微鏡和LED環(huán)形照明系統(tǒng)，除滿足常規(guī)的SEM、TEM和LM等樣品切割后表面拋光和組織修塊外，還特別適用于極微小樣品的靶面處理。LeicaEMRES101離子減薄全計算機控制的多功能離子減薄系統(tǒng),有高度的靈活性,減薄角度可調(diào)由0?至90?,一體化設(shè)計,重復性實驗設(shè)備,可靠具操作性,全電腦控制,精確的參數(shù)調(diào)整,運行中無需人干涉,鞍式離子槍,高能量-快速蝕刻,制冷系統(tǒng),銅傳導,確保TEM,SEM在低溫下操作,主機內(nèi)置2級泵,確保高真空LeicaEMFC6冷凍超薄切片機UC6配備FC6冷凍超薄切片裝置是生物冷凍超薄切片和工業(yè)冷凍超薄切片的必須選擇.利用預(yù)編刀臺切片程序，加上內(nèi)置靜電發(fā)生器和EMFC6冷凍箱,用戶可以很輕易舒適地完成常溫/冷凍的超薄切片工作。兩分鐘內(nèi)就可完成工作.LeicaEMTIC020離子減薄三重離子束的斜面切割功能為掃描電鏡分析樣品提供精確和高效的樣品制備,減薄深度速度1500um120um/H,三束離子槍,高真空,內(nèi)置2級泵LeicaEMSCD005冷噴涂儀冷噴涂儀能滿足廣泛的SEM噴涂要求,細微顆粒膜層,水冷噴涂頭,可用蝕刻程序清理樣品面LeicaEMSCD050冷噴涂儀冷噴涂儀能滿足廣泛的SEM噴涂要求,細微顆粒膜層,水冷噴涂頭,可用蝕刻程序清理樣品面LeicaEMSCD500高真空噴涂儀高真空噴涂儀能滿足高分辨率FE-SEM的噴涂要求,內(nèi)置的隔膜泵和渦輪分子篩泵系統(tǒng)提供真空無油的制樣環(huán)境,操控簡單容易,可以選用各種金屬標靶LeicaEMMED020真空噴涂系統(tǒng)模塊組合桌面型的高分辨率真空噴涂系統(tǒng),提供多種制樣處理,多樣化的模塊滿足各種不同的應(yīng)用,渦輪分子篩泵系統(tǒng)和可選的冷陷提供干凈的制樣環(huán)境,通用控制單元分別操控真空系統(tǒng),真空測量和噴涂處理LeicaEMVCT100冷凍傳送系統(tǒng)通過冷凍傳送系統(tǒng)為分析樣品提供無交叉污染的傳送,常溫或冷凍樣品傳送都能做到無污染,傳送桿重量很輕,不影響分析裝置能保障分析裝置的分辨率不變,樣品制備和分析獨立分開,樣品制備重復性高LeicaEMBAF060冷凍蝕刻系統(tǒng)高端的冷凍蝕刻系統(tǒng),能提供精確的冷凍斷裂接著高分辨率的噴涂功能.沒污染沒假象的樣品制備,裝載倉氣閘加快樣品真空傳送裝載,電子束噴涂角度可調(diào)和旋轉(zhuǎn)造影LeicaHPM100高壓冷凍系統(tǒng)冷凍樣品,深入200 m厚,直徑達6mm,不會產(chǎn)生冰晶現(xiàn)象,活樣品不用冷凍保護,可以冷凍懸浮樣品,培養(yǎng)細胞和組織,冷凍效果重復性高,裝載樣品快速,操控容易,一按完成樣品冷凍固定LeicaEMCPCCPC以模塊式設(shè)計,便于快速和容易更換儀器組件：冷凍固定，冷凍制備和冷凍觀察。CPC是一種 藝術(shù)造型 的多功能工作裝置，用于多種樣品制備：滲入式冷凍法、使用丙烷和乙烷制冷空網(wǎng)技術(shù)和采用MM80注射頭的金屬鏡冷凍固定以及冷凍替代的樣品制備，漸進的溫度降低法和紫外聚合技術(shù)，CPC也可以被作為一個易變溫度的冷凍作臺使用。德國品質(zhì),適用于光學顯微鏡,TEM,SEM樣品的制備與檢驗觀察