用途：

YL離子濺射儀是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等儀器進(jìn)行試樣制備，是開展教學(xué)科研實(shí)驗(yàn)的必備儀器。

鍍膜原理與結(jié)構(gòu)：

YL離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺(tái)上樣品表面成膜，形成導(dǎo)電層。

該離子濺射儀為二極結(jié)構(gòu)，以基臺(tái)和樣品架為正電極與儀器外殼相連并接地，濺射靶電極為負(fù)電極（加負(fù)高壓），它們被安裝在玻璃罩的真空腔內(nèi)，當(dāng)腔內(nèi)達(dá)到一定真空度，在負(fù)高壓的作用下發(fā)生輝光放電產(chǎn)生等離子體，其中正離子在電場加速下，獲得足夠能量轟擊負(fù)電極上的靶面，靶面被濺射原子沉淀于基臺(tái)的樣品表面形成導(dǎo)電膜，以供上述儀器分析。

技術(shù)參數(shù)：

1、型號：

1、真空腔：￠150×12 硅質(zhì)玻璃

2、濺射靶尺寸：￠55×0.3

3、基臺(tái)： ￠50 6-8個(gè)樣品

4、極間距調(diào)節(jié)范圍20-40mm

5、濺射電壓： -2000V-0 DC連續(xù)可調(diào)

濺射電流0-30 mA

6、定時(shí)器：0-99分?jǐn)?shù)字顯示

7、真空測量：1×105-1.0×10-1pa 數(shù)字顯示，具有真空保護(hù)鎖設(shè)置。

8、控制系統(tǒng)：單片機(jī)控制，完成真空自動(dòng)測量、顯示、定時(shí)器倒計(jì)時(shí)功能以及自動(dòng)完成鍍膜程序。

9、真空泵：2L/S二級旋片式直聯(lián)機(jī)械泵，極限真空度6×10-1pa

10、充氣閥：金屬微調(diào)針型閥 保護(hù)氣體 99.9%純度氬氣（推薦）

10、外形尺寸：長354mm ×高216mm ×深340mm

11、電源：AC 220V 50HZ

特點(diǎn)：

1、人性化設(shè)計(jì)，整體性好；

2、單片機(jī)控制，操作方便簡潔；

3、用戶可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要自由設(shè)置濺射操作的工藝參數(shù)，使用靈活、方便；

4、儀器有真空鎖保護(hù)設(shè)置，使儀器可靠性安全性好；