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供應(yīng)海展HT-1001半光鎳光劑

點(diǎn)擊圖片查看原圖
品 牌: 海展 
型 號(hào): HT-1001 
單 價(jià): 面議 
起 訂: 25 公斤 
供貨總量: 1000 公斤
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 重慶
有效期至: 長(zhǎng)期有效
更新日期: 2013-11-21 18:12
瀏覽次數(shù): 945
詢價(jià)
公司基本資料信息
 
 
 
【供應(yīng)海展HT-1001半光鎳光劑】詳細(xì)說(shuō)明

產(chǎn)品品牌:海展

產(chǎn)品型號(hào):HT-1001

處理溫度:50-60度

PH:3.8-4.2

產(chǎn)地:重慶

包裝:25KG裝藍(lán)色塑料方桶。

供貨地:重慶


重慶市海展金屬表面技術(shù)有限公司

HAIZHANMETALSURFACETECHNOLOGYCO.,LTD 

地址:重慶市九龍坡區(qū)白市驛鎮(zhèn)清河村七社郵編:401329

Tel:15922985757Fax:(023)88902290

HT-1001半光鎳光劑

半光鎳電鍍工藝是專門為防腐性能要求高的電鍍件而設(shè)計(jì)的,是雙層鎳、多層鎳工藝必備的半光亮鎳底層。

特性:

1、采用HT-1001半光鎳光劑,能在較寬的電流密度范圍內(nèi)得到平滑、整平性能優(yōu)良之半光鎳鍍層。其鍍層含硫量小于0.003%。

2、HT-1001半光鎳與光鎳鍍層之間電位差在120-150毫伏之間,達(dá)到多層鎳抗蝕性能的要求。

3、半光鎳鍍層霧區(qū)光亮均勻,韌性好,覆蓋力強(qiáng)和整平性好。

4、槽液維護(hù)管理方便,消耗量低,鍍液穩(wěn)定。

操作條件:

成份及條件

使用范圍

建議值

NiSO4.6H2O

250-300g/l

280g/l

NiCl2

30-40g/l

35g/l

H3BO3

40-50g/l

45g/l

HT-1001半光鎳填平劑A

0.4-0.8ml/l

0.6ml/l

HT-1001半光鎳柔軟劑B

8-12ml/l

10ml/l

HT-1001半光鎳電位差劑C

0.3-0.6ml/l

0.5ml/l

HT-1001半光鎳濕潤(rùn)劑

1-2ml/l

2ml/l

溫度

50-60℃

58℃

PH值

3.8-4.2

4.0

電流密度

2.0-6.0A/dm2

4A/dm2

攪拌

空氣攪拌或陰極移動(dòng)

過(guò)濾

連續(xù)循環(huán)過(guò)濾(也可加少量碳粉在過(guò)濾泵里)

光劑的作用及補(bǔ)充:

1、HT-1001半光鎳填平劑A:提高半光鎳鍍層的光亮度和整平性。使霧區(qū)白亮,添加過(guò)量則霧區(qū)減少。新開(kāi)鍍液時(shí),按上述資料添加;而轉(zhuǎn)缸時(shí),一般添加0.1-0.2ml/l為宜。其消耗量為100-150ml/KAH左右。

2、HT-1001半光鎳柔軟劑B:減少鍍層內(nèi)應(yīng)力,增加柔軟性,提高半光鎳鍍層的韌性和均勻性,有一定的光亮作用,可產(chǎn)生均勻的半光鎳鍍層。新開(kāi)鍍液時(shí),按上述資料添加;而轉(zhuǎn)缸時(shí)添加量相對(duì)減少,一般添加1-4ml/l為宜。其消耗量為100-150ml/KAH左右。

3、HT-1001半光鎳電位差劑C:增大雙層鎳之間的電位差及低區(qū)走位,增強(qiáng)鍍層的致密度。新開(kāi)鍍液時(shí),按上述資料添加;而轉(zhuǎn)缸時(shí)添加量相對(duì)減少,一般添加0.1-0.2ml/l為宜。其消耗量為50-100ml/KAH左右。

4、HT-1001半光鎳濕潤(rùn)劑:能有效的防止針孔,降低鍍液表面張力。濕潤(rùn)劑能被活性碳吸附。其消耗量為20-30ml/KAH左右。

5、各種光劑的消耗量只是提供一個(gè)大概數(shù)值,具體要根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況而決定。添加量多少也可經(jīng)赫爾槽試驗(yàn)后而確定。

平時(shí)正常補(bǔ)加比例:1001A:1001B:1001C=1:1:0.5。赫爾槽試驗(yàn)調(diào)整鍍液光劑時(shí),根據(jù)理想調(diào)整效果時(shí)的光劑調(diào)整量來(lái)補(bǔ)加;添加時(shí),采取少量多次的原則。

注意事項(xiàng):

1、生產(chǎn)過(guò)程中,過(guò)濾機(jī)、備用槽等設(shè)備必須半光鎳專用,操作過(guò)程中也需要注意,禁止全光鎳鍍液混入半光鎳,而影響半光鎳與全光鎳鍍層之間的電位差。

2、應(yīng)盡量減少金屬雜質(zhì)的污染。當(dāng)有銅鋅雜質(zhì)影響時(shí),千萬(wàn)不要加入含硫物質(zhì)的除雜劑,而應(yīng)該采用低電流電解處理。

3、鍍液經(jīng)常電鍍鐵基材的產(chǎn)品時(shí),應(yīng)定期添加除鐵劑,定期低電流電解處理,以除去鐵雜質(zhì)。

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